KWD-4T/H+2RE

KWD-4T/H+2RE

浏览次数::423

上架时间:2022-08-19

专为深圳市专业从事AR光波导显示技术和产品开发的“国家高新技术企业”,致力于成为领先的AR近眼显示光学模组供应商,和AR光学行业的领军企业。
提供工业纯水设备


深圳市专业从事AR光波导显示技术和产品开发的“国家高新技术企业”,致力于成为领先的AR近眼显示光学模组供应商,和AR光学行业的领军企业。

提供的工业纯水设备 KWD-4T/H+2RE





    本方案涉及流程及设备是工业用纯水项目,要求如下:

产 水 指 标:

   一级RO反渗透≤10μS/cm;

   二级RO反渗透≤5μS/cm;

   EDI产水电阻率≥15MΩ·cm;  

   抛光混床电阻率≥18MΩ·cm;

1.1.系统总进水:市政自来水≥10T/h  

1.2.系统最终产水:超纯水4T/h。

1.3.系统配置:自动预处理、两级反渗透、EDI系统、抛光混床系统及相关辅助设备。

1.4.系统得率:一级反渗透≥70%,二级RO、EDI浓水不排放,回前段再利用。

1.5.运行方式:全自动运行。

1.6.供水方式:连续产出(24小时运行)。