工业超纯水设备180T/H+2RE

工业超纯水设备180T/H+2RE

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上架时间:2022-05-26

产水规模:180吨每小时
产水水质:电阻率≥18Ω·m
主要工艺:预处理+两级反渗透+EDI系统+抛光混床系统
占地面积:150-180平方米
适用行业:光电产业、电子产业、3C产业、新能源产业、半导体产业、航天军工产业等
工艺特点:
1.PLC全自动控制
2.触摸屏动态显示各级运行状态
3.带远程监控系统

产品特点:

1.产水量:180T/H

2.主要工艺:自来水→原水箱→原水泵→还原剂加药装置→石英砂过滤→活性炭过滤→阻垢剂加药装置→保安过滤器→

一级高压泵→一级反渗透系统→一级水箱→PH调节剂→二级高压泵→二级反渗透系统→二级水箱→EDI增压泵→

TOC脱除器→精密过滤器→EDI系统→纯水泵→UV灭菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点

3.设备配有一级、二级反渗透药洗装置

4.一级反渗透浓水直排,二级反渗透回收至原水箱,EDI浓水排放水回收至一级水箱

5.控制系统采用PLC全自动控制方式,操作简易

6.人机监控画面友好直观,故障点描述直观,并提供相关数据存储功能

7.采用进口陶氏BW30-400反渗透膜,节能环保,寿命长

8.不锈钢变频恒压纯水泵,保证设备24小时不间断供水


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一般用于电子光学行业生产用水,如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求。